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lqqisanswer

银虫 (小有名气)

[求助] 请大家帮忙解决一个问题:我是做OLED的,最近蒸镀设备出现了问题

请大家帮忙解决一个问题:我是做OLED的,最近蒸镀设备出现了问题,清洗腔室后做器件启亮很高,我们的器件结构:ITO/MoO3/NPB/Alq3/LiF/Al 。可能有哪些原因?谢谢大家!

详细情况如下:清洗腔室后(用丙酮和乙醇擦洗),我们表征了下膜厚和清洗之前比较发现差别并不大,但做标准器件时启亮偏高3.4V(比平时要高点),后来又做了一次(换了新买的氧化钼)启亮变为4V,我们怀疑氧化钼又问题就跟别的课题组借了他们的MoO3做器件启亮还是高4V,之后我们又重新清洗了一次腔室做启亮还是很高,且后面越做越高。请问可能是什么问题?
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lqqisanswer

银虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by xds1985 at 2013-12-11 15:15:25
你的真空设备真空度和以前比怎么样?真空度低的话有影响!

真空度比以前要好,以前5*10-4 Pa , 现在3.2*10-4 pa
5楼2013-12-16 09:04:06
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易水刀客

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

三氧化钼是缓冲层
不宜过厚
下次再薄一些
看看什么效果
我是菜鸟,来此学习
2楼2013-12-03 22:04:12
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lqqisanswer

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 易水刀客 at 2013-12-03 22:04:12
三氧化钼是缓冲层
不宜过厚
下次再薄一些
看看什么效果

三氧化钼我也做了不同的厚度,1nm~6nm但效果竟然没什么变化,没加三氧化钼的器件启亮也不正常(比较高),不知道是怎么回事?
3楼2013-12-04 10:23:03
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xds1985

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

你的真空设备真空度和以前比怎么样?真空度低的话有影响!
4楼2013-12-11 15:15:25
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