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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 网络生活区 » 有奖问答 » 学术帮助 » 请大家帮忙解决一个问题：我是做OLED的，最近蒸镀设备出现了问题
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lqqisanswer

银虫 (小有名气)

[求助] 请大家帮忙解决一个问题：我是做OLED的，最近蒸镀设备出现了问题

请大家帮忙解决一个问题：我是做OLED的，最近蒸镀设备出现了问题，清洗腔室后做器件启亮很高，我们的器件结构：ITO/MoO3/NPB/Alq3/LiF/Al 。可能有哪些原因？谢谢大家！

详细情况如下：清洗腔室后（用丙酮和乙醇擦洗），我们表征了下膜厚和清洗之前比较发现差别并不大，但做标准器件时启亮偏高3.4V（比平时要高点），后来又做了一次（换了新买的氧化钼）启亮变为4V，我们怀疑氧化钼又问题就跟别的课题组借了他们的MoO3做器件启亮还是高4V，之后我们又重新清洗了一次腔室做启亮还是很高，且后面越做越高。请问可能是什么问题？
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1楼 2013-12-03 21:25:04
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易水刀客

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

三氧化钼是缓冲层
不宜过厚
下次再薄一些
看看什么效果
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我是菜鸟，来此学习
2楼2013-12-03 22:04:12
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lqqisanswer

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 易水刀客 at 2013-12-03 22:04:12
三氧化钼是缓冲层
不宜过厚
下次再薄一些
看看什么效果

三氧化钼我也做了不同的厚度，1nm~6nm但效果竟然没什么变化，没加三氧化钼的器件启亮也不正常（比较高），不知道是怎么回事？
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3楼2013-12-04 10:23:03
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xds1985

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

你的真空设备真空度和以前比怎么样？真空度低的话有影响！
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4楼2013-12-11 15:15:25
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lqqisanswer

银虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by xds1985 at 2013-12-11 15:15:25
你的真空设备真空度和以前比怎么样？真空度低的话有影响！

真空度比以前要好，以前5*10-4 Pa ， 现在3.2*10-4 pa
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5楼2013-12-16 09:04:06
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wuyuanwu2008

金虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

刘庆庆同学，还没解决吗？哈哈
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6楼2013-12-21 19:30:15
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ACLEYY

铜虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

我也在做OLED，请问道友们那个ALq3，怎么控制其不杨慧，我没有蒸镀，只能用旋涂
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7楼2014-01-21 11:19:11
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zfcsss

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

是不是LIF蒸镀条件的影响？你是什么条件？
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8楼2014-02-11 15:40:58
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DachuiWang

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

你好，我最近也在做ITO/MoO3/NPB/Alq3/LiF/Al这样结构的器件，跟你遇到了同样的问题。以前师兄做启亮电压只有3左右，现在不管我做还是师兄做启亮电压都在4.7左右，而且CE曲线还不是很正常。所以想跟你请教一下后来你是怎么解决这个问题的，谢谢~
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9楼2017-11-27 22:12:24
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Jenkin杨

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by xds1985 at 2013-12-11 15:15:25
你的真空设备真空度和以前比怎么样？真空度低的话有影响！

我想问下，真空度一般要求多少呀？

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10楼2018-06-07 00:07:10
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