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littleroad

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[求助] ZnOPL光致发光光谱的峰的问题

ZnOPL光致发光光谱的峰的问题

测试仪器Hitachi Model F-4500 FL Spectrophotometer，测试参数如下：
激发波长为325nm，扫描速度240 nm/min;EX Slit= 1.0 nm;EM Slit= 1.0 nm;
如图所示，为啥会在325nm和650nm出现这么强的峰，本征峰和缺陷峰不应该都比较宽吗？
难道这两个峰是激光的峰？但是问测试人员他又说以前测试都没加滤波片，而且测试用的玻片不会反射激光，如果样品无荧光的话都是一条直线。
是不是测试还需要设置什么激发功率和狭缝宽度？
求教各路大侠。。。
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1楼 2013-11-27 17:10:29
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8楼: Originally posted by rogersystop at 2013-11-28 09:58:03
改变下样品的角度可以减少镜面反射光，但漫反射光是无解的，要么曲线截掉不要要么加滤光片重扫

那如果下次测试我选取测试范围为激发波长+一个数 ~  激发波长X2-一个数，这样可不可行？
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9楼2013-11-28 10:42:48
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2楼: Originally posted by lianzhongmin at 2013-11-27 19:21:03

多谢帮顶
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3楼2013-11-27 20:23:30
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etin

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【答案】应助回帖

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感谢参与，应助指数 +1
littleroad: 金币+10, ★★★很有帮助 2013-11-28 09:40:40
littleroad: 金币+10, ★★★很有帮助 2014-01-26 19:14:35
按道理这个峰应该出在哪个位置，有看到文献里提到过吗？650刚好是325的两倍，是倍频峰。。。。。
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淡定如风，坚毅如艾
4楼2013-11-27 21:07:04
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4楼: Originally posted by etin at 2013-11-27 21:07:04
按道理这个峰应该出在哪个位置，有看到文献里提到过吗？650刚好是325的两倍，是倍频峰。。。。。

应该在390和505nm附近。。。师父我都快被逼疯了
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5楼2013-11-28 09:16:37
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