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littleroad

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[求助] ZnOPL光致发光光谱的峰的问题

ZnOPL光致发光光谱的峰的问题

测试仪器Hitachi Model F-4500 FL Spectrophotometer,测试参数如下:
激发波长为325nm,扫描速度240 nm/min;EX Slit= 1.0 nm;EM Slit= 1.0 nm;
如图所示,为啥会在325nm和650nm出现这么强的峰,本征峰和缺陷峰不应该都比较宽吗?
难道这两个峰是激光的峰?但是问测试人员他又说以前测试都没加滤波片,而且测试用的玻片不会反射激光,如果样品无荧光的话都是一条直线。
是不是测试还需要设置什么激发功率和狭缝宽度?
求教各路大侠。。。
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etin

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【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
littleroad: 金币+10, ★★★很有帮助 2013-11-28 09:40:40
littleroad: 金币+10, ★★★很有帮助 2014-01-26 19:14:35
按道理这个峰应该出在哪个位置,有看到文献里提到过吗?650刚好是325的两倍,是倍频峰。。。。。
淡定如风,坚毅如艾
4楼2013-11-27 21:07:04
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littleroad

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送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by lianzhongmin at 2013-11-27 19:21:03

多谢帮顶
3楼2013-11-27 20:23:30
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littleroad

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引用回帖:
4楼: Originally posted by etin at 2013-11-27 21:07:04
按道理这个峰应该出在哪个位置,有看到文献里提到过吗?650刚好是325的两倍,是倍频峰。。。。。

应该在390和505nm附近。。。师父我都快被逼疯了
5楼2013-11-28 09:16:37
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rogersystop

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
littleroad: 金币+10, ★★★很有帮助 2013-11-28 09:40:23
玻片不反射激光,不代表样品不反射激光……明显是光源的信号呢
6楼2013-11-28 09:35:29
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