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chonglc

银虫 (小有名气)
引用回帖:
10楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-02 12:02:40
如果都是完全涂覆的状态，没有关系。...

你好，我是做PDMS芯片的，需要在硅片上作出模子，我想请教一下，最后出来的固化后的光刻胶图形的厚度是否只是与甩胶的转速，以及光刻胶的粘度（即光刻胶的型号）有关，而与甩胶的时间没有关系？ 非常感谢！
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11楼2013-12-02 20:27:15
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
11楼: Originally posted by chonglc at 2013-12-02 20:27:15
你好，我是做PDMS芯片的，需要在硅片上作出模子，我想请教一下，最后出来的固化后的光刻胶图形的厚度是否只是与甩胶的转速，以及光刻胶的粘度（即光刻胶的型号）有关，而与甩胶的时间没有关系？ 非常感谢！...

匀胶低速段时间短的话，有些胶匀不开。高速段时间短的话，没有充分成均匀薄膜。一般的胶高速低速均30s以上就可以了，厚胶时间略长。
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12楼2013-12-02 20:59:31
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wjscl2009

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
12楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-02 20:59:31
匀胶低速段时间短的话，有些胶匀不开。高速段时间短的话，没有充分成均匀薄膜。一般的胶高速低速均30s以上就可以了，厚胶时间略长。...

这两个不是一个意思吗？前期低速匀散开是到什么程度才算ok的呢，再升到高速？求解释，谢了
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13楼2014-02-16 20:37:26
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747095441

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

我也用过这种光刻胶，不知楼主刻得图形如何，有图有真相
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沉默的野狼
14楼2014-03-12 22:48:14
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第七本书

铁杆木虫 (正式写手)
效果不好？具体怎么不好的呢？比如线条粗细、清晰度、残胶等等，影响因素很多哦！
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15楼2014-03-13 07:09:13
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zqhwonder

铁虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

根据你的参数来看，可能有以下原因：1，曝光时间过短，可以将曝光时间增至半分钟以上；
2，显影时间过长，一般在1:10的显影液里，显影十秒左右就可以了，时间过久，可能会把光刻胶和玻璃胶都溶解了
3，硅的表面与胶的粘附效果不太好，光刻之前需要对其表面进行改性处理，一般使用HMDS增粘剂进行处理（有毒！！）
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16楼2014-03-29 15:40:03
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天海星云

新虫 (初入文坛)
怎么个不理想？掉胶？有毛刺？还是尺寸变化大？或者胶膜颜色暗淡？

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17楼2016-07-25 15:59:02
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zengbinjian

铜虫 (正式写手)
不理想是个什么状况啊？感觉曝光时间太短了，可以查下光刻胶的说明材料，确认曝光能量，然后测一下光刻机的曝光光强，确认一下大致的曝光时间。

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18楼2016-07-25 16:11:38
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zengbinjian

铜虫 (正式写手)
还有直接在硅片上甩胶，粘附性不好，可以先涂一层hmds

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19楼2016-07-25 16:14:15
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