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chonglc

银虫 (小有名气)

引用回帖:
10楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-02 12:02:40
如果都是完全涂覆的状态,没有关系。...

你好,我是做PDMS芯片的,需要在硅片上作出模子,我想请教一下,最后出来的固化后的光刻胶图形的厚度是否只是与甩胶的转速,以及光刻胶的粘度(即光刻胶的型号)有关,而与甩胶的时间没有关系? 非常感谢!
11楼2013-12-02 20:27:15
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
11楼: Originally posted by chonglc at 2013-12-02 20:27:15
你好,我是做PDMS芯片的,需要在硅片上作出模子,我想请教一下,最后出来的固化后的光刻胶图形的厚度是否只是与甩胶的转速,以及光刻胶的粘度(即光刻胶的型号)有关,而与甩胶的时间没有关系? 非常感谢!...

匀胶低速段时间短的话,有些胶匀不开。高速段时间短的话,没有充分成均匀薄膜。一般的胶高速低速均30s以上就可以了,厚胶时间略长。
12楼2013-12-02 20:59:31
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wjscl2009

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
12楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-02 20:59:31
匀胶低速段时间短的话,有些胶匀不开。高速段时间短的话,没有充分成均匀薄膜。一般的胶高速低速均30s以上就可以了,厚胶时间略长。...

这两个不是一个意思吗?前期低速匀散开是到什么程度才算ok的呢,再升到高速?求解释,谢了
13楼2014-02-16 20:37:26
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747095441

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

我也用过这种光刻胶,不知楼主刻得图形如何,有图有真相
沉默的野狼
14楼2014-03-12 22:48:14
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第七本书

铁杆木虫 (正式写手)

效果不好?具体怎么不好的呢?比如线条粗细、清晰度、残胶等等,影响因素很多哦!
15楼2014-03-13 07:09:13
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zqhwonder

铁虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

根据你的参数来看,可能有以下原因:1,曝光时间过短,可以将曝光时间增至半分钟以上;
2,显影时间过长,一般在1:10的显影液里,显影十秒左右就可以了,时间过久,可能会把光刻胶和玻璃胶都溶解了
3,硅的表面与胶的粘附效果不太好,光刻之前需要对其表面进行改性处理,一般使用HMDS增粘剂进行处理(有毒!!)
16楼2014-03-29 15:40:03
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天海星云

新虫 (初入文坛)

怎么个不理想?掉胶?有毛刺?还是尺寸变化大?或者胶膜颜色暗淡?

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17楼2016-07-25 15:59:02
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zengbinjian

铜虫 (正式写手)

不理想是个什么状况啊?感觉曝光时间太短了,可以查下光刻胶的说明材料,确认曝光能量,然后测一下光刻机的曝光光强,确认一下大致的曝光时间。

发自小木虫Android客户端
18楼2016-07-25 16:11:38
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zengbinjian

铜虫 (正式写手)

还有直接在硅片上甩胶,粘附性不好,可以先涂一层hmds

发自小木虫Android客户端
19楼2016-07-25 16:14:15
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