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chenmeng_413新虫 (初入文坛)
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光刻工艺 已有2人参与
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请教各位大神，我现在在Si片上做光刻，胶是RZJ—304，具体参数如下： 匀胶：低500 高4000 前烘：100度 90s 曝光：8s 显影：90s 后烘：120度 2min 可效果并不怎么理想，不知哪些参数需要改动？  |
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10楼2013-12-02 12:02:40
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3楼2013-11-22 16:53:47
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