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空白印迹分子聚合物
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clearskyy
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空白印迹分子聚合物
我想请教下各位做过分子印迹的虫友,空白印迹分子聚合物合成后,需要用洗脱剂洗脱处理吗?洗脱(索氏抽提)的话感觉麻烦,不洗的话肯定有残留下来没有反应的东西
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1楼
2013-11-05 09:31:43
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2013-11-13 12:00:27
感觉楼主理解错了,索氏提取的目的是洗脱掉模板分子 并不是为了洗掉反应残留或脏东西,非印迹不需要索氏提取是因为合成过程中没有模板分子的参加 所以不需要洗脱模板的过程,但是洗涤掉反应残留的过程还是要有的
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3楼
2013-11-06 14:45:00
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525340698
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非印迹除不加模板外,其余与印记过程完全相同。
上面讲的是必要的过程,分子印迹这个并不好做,所以根据你实验结果,怎么来,你懂的。。
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2楼
2013-11-05 11:02:54
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clearskyy
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2楼
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Originally posted by
525340698
at 2013-11-05 11:02:54
非印迹除不加模板外,其余与印记过程完全相同。
上面讲的是必要的过程,分子印迹这个并不好做,所以根据你实验结果,怎么来,你懂的。。
是啊,很不好做,而且洗脱很久都洗不下来
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4楼
2013-11-13 11:56:33
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clearskyy
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3楼
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Originally posted by
kof705991
at 2013-11-06 14:45:00
感觉楼主理解错了,索氏提取的目的是洗脱掉模板分子 并不是为了洗掉反应残留或脏东西,非印迹不需要索氏提取是因为合成过程中没有模板分子的参加 所以不需要洗脱模板的过程,但是洗涤掉反应残留的过程还是要有的
可是看文献上面都说无印迹聚合物除了不加模板,其他步骤和处理都一样,真是很疑惑啊
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5楼
2013-11-13 12:02:05
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