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123xiejiaq

木虫 (正式写手)

[交流] 分子印迹聚合物的过筛问题 已有2人参与

请问大家合成印迹聚合物之后,研磨之后是过多少目的标准筛呢?如果还要做扫描电镜的话跟之前过多少目的标准筛有关系么?
印迹聚合物模板洗脱之前都要进行沉降么?沉降试剂一般是丙酮和甲醇么?用的量是多少呢,请高手指教哈!
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herenren

禁虫 (著名写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
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2楼2011-09-16 17:05:48
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123xiejiaq

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by herenren at 2011-09-16 17:05:48:
过筛是按照自己标准来的,没有统一规定,做SEM跟过筛无关,关键那你的目标。

不一定都要沉降,直接洗脱模板也可以

呵呵, 长知识了,谢谢了哦!
3楼2011-09-17 08:30:55
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sunxiaoli

木虫 (著名写手)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
沉降是要除去附着在大颗粒上的小颗粒,小颗粒会造成粒径的分布不均。而且,比如做SPE材料时,这些小颗粒如果不洗掉会堵塞筛板。
4楼2011-11-01 08:19:25
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