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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 分析 » 分子印迹聚合物的过筛问题
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123xiejiaq

木虫 (正式写手)

[交流] 分子印迹聚合物的过筛问题 已有2人参与

请问大家合成印迹聚合物之后，研磨之后是过多少目的标准筛呢？如果还要做扫描电镜的话跟之前过多少目的标准筛有关系么？
印迹聚合物模板洗脱之前都要进行沉降么？沉降试剂一般是丙酮和甲醇么？用的量是多少呢，请高手指教哈！
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1楼 2011-09-16 15:56:16
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herenren

禁虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
本帖内容被屏蔽
2楼2011-09-16 17:05:48
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123xiejiaq

木虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by herenren at 2011-09-16 17:05:48:
过筛是按照自己标准来的，没有统一规定，做SEM跟过筛无关，关键那你的目标。

不一定都要沉降，直接洗脱模板也可以

呵呵， 长知识了，谢谢了哦！
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3楼2011-09-17 08:30:55
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sunxiaoli

木虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
沉降是要除去附着在大颗粒上的小颗粒，小颗粒会造成粒径的分布不均。而且，比如做SPE材料时，这些小颗粒如果不洗掉会堵塞筛板。
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4楼2011-11-01 08:19:25
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