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yangyanning

金虫 (小有名气)

[求助] 同位镀汞测定镉,条件参数

最近在做同位镀汞测定镉,听说预镀汞膜方法的灵敏度没有同位镀汞的高
可是在做的时候用了很多种伏安法都不能得出比较好的曲线。
求I-T的参数和DPV的参数。。。
先谢谢大家了
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紫月7599

铁杆木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
用差分脉冲同位镀汞吧,Hg 0.5ppm就够了富集-1400mV,时间120s,脉冲宽度0.05s,脉冲周期0.2s,取样宽度0.02s
2楼2013-10-30 12:44:55
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yangyanning

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 紫月7599 at 2013-10-30 12:44:55
用差分脉冲同位镀汞吧,Hg 0.5ppm就够了富集-1400mV,时间120s,脉冲宽度0.05s,脉冲周期0.2s,取样宽度0.02s

那沉积是用哪种方法呢。。。?
3楼2013-10-31 14:28:24
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紫月7599

铁杆木虫 (小有名气)

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3楼: Originally posted by yangyanning at 2013-10-31 14:28:24
那沉积是用哪种方法呢。。。?...

沉积用恒电位,要搅拌
4楼2013-11-02 12:00:49
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yangyanning

金虫 (小有名气)

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4楼: Originally posted by 紫月7599 at 2013-11-02 12:00:49
沉积用恒电位,要搅拌...

线性扫描伏安法?
电流时间曲线?
电位溶出分析?
5楼2013-11-02 21:30:09
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yangyanning

金虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 紫月7599 at 2013-11-02 12:00:49
沉积用恒电位,要搅拌...

而且我搅拌了之后基线出现抖动。。。所以就没搅拌
6楼2013-11-02 21:32:34
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紫月7599

铁杆木虫 (小有名气)

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6楼: Originally posted by yangyanning at 2013-11-02 21:32:34
而且我搅拌了之后基线出现抖动。。。所以就没搅拌...

沉积用恒电位加搅拌,溶出用差分脉冲不搅拌,你看一下有没有差分脉冲溶出伏安法,有的话直接用这种方法,就是富集的时候加搅拌,不然灵敏度不够
7楼2013-11-03 08:55:37
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yangyanning

金虫 (小有名气)

引用回帖:
7楼: Originally posted by 紫月7599 at 2013-11-03 08:55:37
沉积用恒电位加搅拌,溶出用差分脉冲不搅拌,你看一下有没有差分脉冲溶出伏安法,有的话直接用这种方法,就是富集的时候加搅拌,不然灵敏度不够...

可是我没有恒电位这个啊QAQ
8楼2013-11-03 10:26:13
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紫月7599

铁杆木虫 (小有名气)

引用回帖:
8楼: Originally posted by yangyanning at 2013-11-03 10:26:13
可是我没有恒电位这个啊QAQ...

怎么可能呢,就是i-t时间电流曲线啊
9楼2013-11-04 08:52:20
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紫月7599

铁杆木虫 (小有名气)

引用回帖:
8楼: Originally posted by yangyanning at 2013-11-03 10:26:13
可是我没有恒电位这个啊QAQ...

怎么可能呢,就是i-t时间电流曲线啊
10楼2013-11-04 08:52:28
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