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aishanshan

铁虫 (初入文坛)

[求助] 紧急求助关于磷掺杂纳米硅的问题

各位虫子上的大牛们求你们给分析这是怎么回事。我用PECVD做N型磷掺杂纳米硅膜,通入气体为PH3,SiH4,H2,玻璃衬底,射频功率30w,温度200℃。但是不管生长多长时间玻璃衬底上什么都没有,就是没有纳米硅膜。但是如果不通入PH3,只通入SiH4,H2生长本征纳米硅膜一切正常,就是通入PH3做掺杂后什么都生长不上。气体源没问题,PH3已经换新的了,腔室也没问题,换别的腔室也这样,射频源也换过没用。大牛们遇到过这样的情况么?求解释谢谢
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