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硼化物靶材及相关参数 已有1人参与
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LaB6 靶材,熔点2230℃,密度4.7g/cm3 ,电阻率15μΩ·cm, 维氏硬度 27.7 Gpa TiB2 靶材,熔点2980℃,密度4.5g/cm3,电阻率9~15μΩ·cm,维氏硬度 33.5 Gpa ZrB2靶材,熔点3040℃,密度6.1g/cm3,电阻率7~10μΩ·cm,维氏硬度 22.5 Gpa HfB2靶材,熔点3250℃,密度11.2g/cm3,电阻率10~12μΩ·cm,维氏硬度 29 Gpa NbB2靶材,熔点3000℃,密度7g/cm3,电阻率12~65μΩ·cm,维氏硬度26 Gpa TaB2靶材,熔点3100℃,密度12.6g/cm3,电阻率14~68μΩ·cm,维氏硬度25 Gpa CrB2靶材,熔点1950℃,密度5.2g/cm3,电阻率21~56μΩ·cm,维氏硬度18Gpa MoB2靶材,熔点2250℃,密度7.7g/cm3,电阻率20~40μΩ·cm,维氏硬度12Gpa W2B5靶材,熔点2200℃,密度13.1g/cm3,电阻率21~56μΩ·cm,维氏硬度26.5Gpa 纯度:99.5~99.9% ,致密度高,工艺:真空热压, 单片最大尺寸:直径14英寸(355mm),长260mmX宽200mmX厚20mm |
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 磁控溅射靶材资料大全 | Target and film |
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2楼2018-04-01 10:52:58
