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xunmengyuan

禁虫 (正式写手)

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hyss1992

金虫 (小有名气)

气压太高,散射作用强,粒子能量损失大,生长速率低,反应气体流量高反应不完全,功率小原子没能量附着不上,靶基距差不多,再摸索一下工艺条件吧
Stayhungry,stayfoolish.
13楼2013-11-13 21:21:27
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
xunmengyuan: 金币+10, ★★★很有帮助 2013-08-04 10:54:42
xunmengyuan: 金币+10 2013-08-05 08:09:35
不知道你的怎么需要这么长时间

你可以尝试调整一下靶材到基片的距离,以增大沉积速率

一般情况下,如果溅射系统质量够好的话,比如冷却到位,电源稳定性很好,这么长时间应该没问题,就怕中途靶材开裂,造成成分变化、
2楼2013-08-04 00:05:00
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xunmengyuan

禁虫 (正式写手)

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3楼2013-08-04 10:54:24
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

引用回帖:
3楼: Originally posted by xunmengyuan at 2013-08-04 11:54:24
靶间距已经很小了,也就6cm,你做过连续10个小时的溅射吗、我以前最长的一个小时,没做过这么久的,怕吧设备弄坏了。...

我做过
不过功率不大,
应该在100w左右吧

如果不保险,最好还是不要这么搞

还有一个原因是:你的电极中靶材到磁铁的距离太大了, 或者说生产厂家怕磁体冷却不充分,而增大Cu层的厚度确保冷却效果好。或者生产厂家所使用的磁体牌号不高。
4楼2013-08-04 22:44:54
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