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yeshenghua木虫 (正式写手)
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关于电沉积金属铜的小小疑问
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小硕这个月刚刚接触电化学实验，有不少困惑和疑问，希望大家多多指教。 目前我的实验主要是在钛片上沉积氧化锌，然后在氧化锌镀层上进一步镀铜。镀铜步骤选择用氯化铜作为镀液，恒电流法沉积。 目前最大的问题是用浓度是0.006M的氯化铜沉积40分钟就能很均匀地把铜单质镀上，反而用0.02M的氯化铜却很难镀上，即使把沉积时间延长至180分钟，勉强镀上的镀层也非常的不均匀。 铜离子浓度大不应该更有利于铜离子放电还原吗？怎么实验结果不对呢？求高手指点  |
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