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关于电沉积金属铜的小小疑问
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yeshenghua
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关于电沉积金属铜的小小疑问
小硕这个月刚刚接触电化学实验,有不少困惑和疑问,希望大家多多指教。
目前我的实验主要是在钛片上沉积氧化锌,然后在氧化锌镀层上进一步镀铜。镀铜步骤选择用氯化铜作为镀液,恒电流法沉积。
目前最大的问题是用浓度是0.006M的氯化铜沉积40分钟就能很均匀地把铜单质镀上,反而用0.02M的氯化铜却很难镀上,即使把沉积时间延长至180分钟,勉强镀上的镀层也非常的不均匀。
铜离子浓度大不应该更有利于铜离子放电还原吗?怎么实验结果不对呢?求高手指点
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1楼
2013-07-28 20:24:36
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jkimmijk
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氧化锌不是不导电吗?致密恒电流镀上去的铜?再说镀铜一般硫酸盐居多啊。
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2楼
2013-07-29 15:07:14
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yeshenghua
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2楼
:
Originally posted by
jkimmijk
at 2013-07-29 15:07:14
氧化锌不是不导电吗?致密恒电流镀上去的铜?再说镀铜一般硫酸盐居多啊。
老板让用氯化铜镀,能在氧化锌上面镀铜,只不过浓度低的情况下才能镀均匀,浓度高很难镀上,即使镀上了也不均匀,觉得奇怪。
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3楼
2013-07-29 16:43:41
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well830202
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2013-12-09 13:20:06
高浓度情况下氧化锌腐蚀
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4楼
2013-12-09 10:32:19
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baoshi0423
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2013-12-11 00:23:10
阴阳极投影,电镀边缘效应,客服这两个问题,你的厚度就会均匀。
此外,增加铜离子浓度会降低电镀液的极化,增加了厚度的离散性,任何电解液都有工艺参数范围。
包括酸浓度、主盐浓度、添加剂浓度、合适的温度、循环量,以上供参考。
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5楼
2013-12-10 17:09:31
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imba351
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楼主沉积的铜表面光滑吗?我用硫酸铜做铜沉积,表面有很多颗粒,不知何解?我的实验条件如下:45克升铜离子,10度电解,硫脲和明胶添加剂(10mg20mg每升),整体设备仿照实际生产的模式。楼主的实验条件是怎样的?
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6楼
2014-03-09 13:52:58
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yeshenghua
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6楼
:
Originally posted by
imba351
at 2014-03-09 13:52:58
楼主沉积的铜表面光滑吗?我用硫酸铜做铜沉积,表面有很多颗粒,不知何解?我的实验条件如下:45克升铜离子,10度电解,硫脲和明胶添加剂(10mg20mg每升),整体设备仿照实际生产的模式。楼主的实验条件是怎样的?
我沉积出来也是有很多颗粒
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7楼
2014-03-11 08:42:09
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a349938677
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浓度大的话成核生长太快,肯定不均匀
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8楼
2014-08-27 21:57:33
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