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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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wangsheng7

金虫 (小有名气)

[求助] 急,请问如何选择干法刻蚀(RIE)金属氧化物薄膜的气体?(用来刻蚀ZnO薄膜等)

希望通过干法刻蚀(反应等离子气刻蚀 RIE) ZnO、SnO2、ITO 等金属氧化物,用不锈钢或Au、Ag膜作掩膜,选择哪种刻蚀工作气体好呢?
以前看文献有用CH4/H2来刻蚀ITO的,但国内好像没有,能用Cl2等来刻蚀吗?

[ Last edited by wangsheng7 on 2013-7-18 at 16:47 ]
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xiongshinan

铜虫 (小有名气)


【答案】应助回帖

不可以用带有氯基的气体刻蚀,因为氯气同样会刻蚀不锈钢或者Au, 掩膜的意义就没有了。
刻蚀这类金属氧化物可以用氟基气体,比如 S2F6,CF4 等气体。

希望可以帮到你哟。
2楼2013-07-30 15:20:38
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cord

铁杆木虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

国内有trion设备的单位就可以做上面提到的所有气体。过段时间南开大学光电子所就可以做这个了,他们的设备正在从美国运回去。
3楼2013-07-31 03:21:18
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