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wangsheng7金虫 (小有名气)
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[求助]
急，请问如何选择干法刻蚀(RIE)金属氧化物薄膜的气体？（用来刻蚀ZnO薄膜等）
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希望通过干法刻蚀(反应等离子气刻蚀 RIE) ZnO、SnO2、ITO 等金属氧化物，用不锈钢或Au、Ag膜作掩膜，选择哪种刻蚀工作气体好呢？ 以前看文献有用CH4/H2来刻蚀ITO的，但国内好像没有，能用Cl2等来刻蚀吗？ [ Last edited by wangsheng7 on 2013-7-18 at 16:47 ] |
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3楼2013-07-31 03:21:18