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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 急，请问如何选择干法刻蚀(RIE)金属氧化物薄膜的气体？（用来刻蚀ZnO薄膜等）
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wangsheng7

金虫 (小有名气)

[求助] 急，请问如何选择干法刻蚀(RIE)金属氧化物薄膜的气体？（用来刻蚀ZnO薄膜等）

希望通过干法刻蚀(反应等离子气刻蚀 RIE) ZnO、SnO2、ITO 等金属氧化物，用不锈钢或Au、Ag膜作掩膜，选择哪种刻蚀工作气体好呢？
以前看文献有用CH4/H2来刻蚀ITO的，但国内好像没有，能用Cl2等来刻蚀吗？

[ Last edited by wangsheng7 on 2013-7-18 at 16:47 ]
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1楼 2013-07-18 16:45:37
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xiongshinan

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

不可以用带有氯基的气体刻蚀，因为氯气同样会刻蚀不锈钢或者Au, 掩膜的意义就没有了。
刻蚀这类金属氧化物可以用氟基气体，比如 S2F6，CF4 等气体。

希望可以帮到你哟。
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2楼2013-07-30 15:20:38
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cord

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

国内有trion设备的单位就可以做上面提到的所有气体。过段时间南开大学光电子所就可以做这个了，他们的设备正在从美国运回去。
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3楼2013-07-31 03:21:18
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