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关于电极修饰双硫醇后的交流阻抗问题
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关于电极修饰双硫醇后的交流阻抗问题
我用裸金电极修饰双硫醇,然后测定其EIS,发现只有一次测得的电阻达到1e+4级别,其他都是10的三次方。请问为什么那一次的电阻为什么会那么大呢?有什么可能的原因,我很想知道,因为我再怎么改变实验条件(温度、修饰时间等),也修饰不到1e+4 ohm了。谢谢。(注:我觉得电极修饰上双硫醇后是电阻越大越好,证明修饰的越成功。)
这下面分别是两次的EIS曲线
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2013-07-10 11:13:18
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2013-07-11 11:02:21
和空白电极的EIS做对比就很能说明问题,Rct大约4000欧姆,金电极表面肯定是有自组装膜存在了
至于数次实验中Rct数值不等,可归纳于金电极表面自组装膜的覆盖度或形态不同,可能与电极表面状态、自组装条件有关。
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4楼
2013-07-10 19:36:22
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也不知道我测出的电阻10的三次方算不算修饰成功了呢??
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2013-07-10 11:14:29
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2013-07-24 16:44:51
CHI工作站的EIS本身就不是很稳定,也可能带来数据上的偏差
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5楼
2013-07-10 19:37:38
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4楼
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clubaa
at 2013-07-10 19:36:22
和空白电极的EIS做对比就很能说明问题,Rct大约4000欧姆,金电极表面肯定是有自组装膜存在了
至于数次实验中Rct数值不等,可归纳于金电极表面自组装膜的覆盖度或形态不同,可能与电极表面状态、自组装条件有关。
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2013-07-11 11:02:31
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