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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 【求助】DC磁控溅射NiFe开始能起辉但是打开挡板后不能起辉是什么原因？
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alwayslove

银虫 (小有名气)

[求助] 【求助】DC磁控溅射NiFe开始能起辉但是打开挡板后不能起辉是什么原因？

用得DC磁控溅射NiO没有问题，采用的是金属靶Ni。但是在用NiFe靶材的时候，气压0.3Pa,没打开挡板能够起辉，但是和之前师姐做的同样的功率气压条件下用的同样的靶材电压要大50V，电流要小。打开挡板溅射时，电压过大，甚至超过量程，电流变成0，辉光熄灭，关闭挡板同样又有辉光。这是什么原因呢？
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1楼 2013-06-06 09:42:06
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zhouzh2011

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
alwayslove: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-06-18 14:27:41
有电压，没电流那是断路了！检查下线路，不过挡板怎么跟靶的线路有关系，就不清楚了
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2楼2013-06-06 16:15:24
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alwayslove

银虫 (小有名气)
不是短路，是阳极被屏蔽了。镀的磨比较厚，很多都是绝缘性的，导致阳极屏蔽，就会产生这种情况。现在已经解决。
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3楼2013-06-07 17:14:36
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