| 查看: 730 | 回复: 2 | ||
[求助]
【求助】DC磁控溅射NiFe开始能起辉但是打开挡板后不能起辉是什么原因?
|
| 用得DC磁控溅射NiO没有问题,采用的是金属靶Ni。但是在用NiFe靶材的时候,气压0.3Pa,没打开挡板能够起辉,但是和之前师姐做的同样的功率气压条件下用的同样的靶材电压要大50V,电流要小。打开挡板溅射时,电压过大,甚至超过量程,电流变成0,辉光熄灭,关闭挡板同样又有辉光。这是什么原因呢? |
» 猜你喜欢
请问对标matlab的开源软件octave的网站https://octave.org为什么打不开?
已经有1人回复
求助两种BiOBr晶体的CIF文件(卡片号为JCPDS 09-0393与JCPDS 01-1004 )
已经有0人回复
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有167人回复
哈尔滨工程大学材化学院国家级青年人才-26年硕士招生
已经有0人回复
求助Fe-TCPP、Zn-TCPP的CIF文件,或者CCDC号
已经有0人回复
XPS/?λXPS
已经有0人回复
河北大学-26年秋季入学化学博士招生
已经有0人回复
» 本主题相关价值贴推荐,对您同样有帮助:
直流磁控溅射NiFe合金靶材厚度应为多少啊?
已经有7人回复
zhouzh2011
银虫 (初入文坛)
- 应助: 4 (幼儿园)
- 金币: 469.1
- 帖子: 45
- 在线: 137.1小时
- 虫号: 1484198
- 注册: 2011-11-09
- 性别: MM
- 专业: 凝聚态物性 II :电子结构
2楼2013-06-06 16:15:24
3楼2013-06-07 17:14:36













回复此楼