| 查看: 865 | 回复: 2 | ||
[求助]
【求助】DC磁控溅射NiFe开始能起辉但是打开挡板后不能起辉是什么原因？
|
| 用得DC磁控溅射NiO没有问题，采用的是金属靶Ni。但是在用NiFe靶材的时候，气压0.3Pa,没打开挡板能够起辉，但是和之前师姐做的同样的功率气压条件下用的同样的靶材电压要大50V，电流要小。打开挡板溅射时，电压过大，甚至超过量程，电流变成0，辉光熄灭，关闭挡板同样又有辉光。这是什么原因呢？ |
回复此楼
zhouzh2011
银虫 (初入文坛)
- 应助: 4 (幼儿园)
- 金币: 469.1
- 帖子: 45
- 在线: 137.1小时
- 虫号: 1484198
- 注册: 2011-11-09
- 性别: MM
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
2楼2013-06-06 16:15:24
3楼2013-06-07 17:14:36
30