| 查看: 768 | 回复: 2 | |||
[求助]
【求助】DC磁控溅射NiFe开始能起辉但是打开挡板后不能起辉是什么原因？
|
| 用得DC磁控溅射NiO没有问题，采用的是金属靶Ni。但是在用NiFe靶材的时候，气压0.3Pa,没打开挡板能够起辉，但是和之前师姐做的同样的功率气压条件下用的同样的靶材电压要大50V，电流要小。打开挡板溅射时，电压过大，甚至超过量程，电流变成0，辉光熄灭，关闭挡板同样又有辉光。这是什么原因呢？ |
回复此楼» 猜你喜欢
非晶合金
已经有2人回复
-
院士团队-每届学生都优秀-高自由度-团队氛围好
已经有0人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有182人回复
-
求调剂
已经有3人回复
-
化工学院（学院正式调剂群+联系方式）
已经有0人回复
-
化工学院（学院官方群）-院士团队招生-学生自由度高-培养模式成熟高效
已经有0人回复
-
黑龙江大学分析化学招调剂
已经有0人回复
-
武汉高校国家级人才团队招收材料，化学，纺织等专业硕士调剂生
已经有26人回复
-
纺大化工学院（官方群）-院士团队招生-学生自由度高发展好-培养模式成熟
已经有0人回复
-
温州大学化材学院王娟课题组招生
已经有5人回复
-
学院官方群-院士团队招生-学生自由度高-培养模式成熟已有10余名学生赴985海外深造
已经有0人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 直流磁控溅射NiFe合金靶材厚度应为多少啊？
已经有7人回复
zhouzh2011
银虫 (初入文坛)
- 应助: 4 (幼儿园)
- 金币: 469.1
- 帖子: 45
- 在线: 137.1小时
- 虫号: 1484198
- 注册: 2011-11-09
- 性别: MM
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
2楼2013-06-06 16:15:24
3楼2013-06-07 17:14:36
