| 查看: 972 | 回复: 4 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
介孔剂Brij 30如何去除
|
||
| 以SiO2为模板制备中空介孔氧化锆时，用聚氧乙烯月桂醚（Brij 30为模板剂）。（参考的是这篇文献 Hollow Mesoporous Zirconia Nanocapsules for Drug Delivery）该文献中去除Brij 30 用的是煅烧的方法。而我现在需要用回流的方法移除，求助该用哪些溶剂，具体反应条件是什么？最好有个参考文献 非常感谢！！！ |
回复此楼» 猜你喜欢
情人节自我反思：在爱情中有过遗憾吗？
已经有3人回复
-
球磨粉体时遇到了大的问题，请指教！
已经有11人回复
-
江汉大学解明教授课题组招博士研究生/博士后
已经有3人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 大孔二氧化硅介孔材料
已经有5人回复
- 介孔SiO2 离子交换去除CTAB洗多长时间呢？
已经有14人回复
- 【求助】合成介孔碳时怎么去除二氧化硅？HF觉得有毒，
已经有6人回复
5楼2013-07-26 11:09:16
2楼2013-07-24 17:52:02
3楼2013-07-25 08:49:43
4楼2013-07-25 19:28:21