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川上昼夜

木虫 (小有名气)

[求助] 介孔剂Brij 30如何去除

以SiO2为模板制备中空介孔氧化锆时，用聚氧乙烯月桂醚（Brij 30为模板剂）。（参考的是这篇文献 Hollow Mesoporous Zirconia Nanocapsules for Drug Delivery）该文献中去除Brij 30 用的是煅烧的方法。而我现在需要用回流的方法移除，求助该用哪些溶剂，具体反应条件是什么？最好有个参考文献 非常感谢！！！
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永远不要轻言等待
1楼 2013-05-13 17:10:43
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amio67

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★
川上昼夜: 金币+1 2013-07-25 08:46:09
还是支持一下，不过我新接触这个的，请问楼主，brij做模板，合成的是SBA还是MCM，具体那个型号
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2楼2013-07-24 17:52:02
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川上昼夜

木虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by amio67 at 2013-07-24 17:52:02
还是支持一下，不过我新接触这个的，请问楼主，brij做模板，合成的是SBA还是MCM，具体那个型号

我是以SiO2为硬模板，在其表面上一层氧化锆。最后要除去氧化硅，形成氧化锆中空球。为使锆壳上有介孔，从而加入的Brij。
具体参见上述文献
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永远不要轻言等待
3楼2013-07-25 08:49:43
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amio67

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 川上昼夜 at 2013-07-25 08:49:43
我是以SiO2为硬模板，在其表面上一层氧化锆。最后要除去氧化硅，形成氧化锆中空球。为使锆壳上有介孔，从而加入的Brij。
具体参见上述文献...

哦哦，那我不知道怎么回流去除，我们也是calcination，不好意思
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4楼2013-07-25 19:28:21
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川上昼夜

木虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by amio67 at 2013-07-25 19:28:21
哦哦，那我不知道怎么回流去除，我们也是calcination，不好意思...

嗯，没关系
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5楼2013-07-26 11:09:16
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