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wcjhit

木虫 (正式写手)

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[交流] 如何测定试样表面是否有氧化物产生？XPS？

最近投了一篇文章，为了排除试样表层氧化物对测试结果的影响，我用XPS对试样表面进行逐层剥离分析，XPS结果如下图所示。据此，我判断表层无氧化物产生。而审稿人却说：Now the samples were Ni and it is impossible for Ni to have no oxide on the surface. Surely the XPS did not pick this up, but such a statement is obviously wrong.
请问我该如何回复审稿人，或者能否通过其他的方法来对表层氧化物进行测定与分析。

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1楼 2013-05-03 10:49:32

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引用回帖:

7楼: Originally posted by hwweven at 2013-05-03 22:45:46
单质Ni2p在852.3和869.7附近，而NiO中的Ni2p在853.3和871.7附近，Ni2O3的Ni2p3/2可能在856.8附近，楼主可以对照着找找看。
看图中未刻蚀的表面似乎有NiO存在，但峰很弱小。

非常感谢！

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