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wcjhit

木虫 (正式写手)

[交流] 如何测定试样表面是否有氧化物产生？XPS？

最近投了一篇文章，为了排除试样表层氧化物对测试结果的影响，我用XPS对试样表面进行逐层剥离分析，XPS结果如下图所示。据此，我判断表层无氧化物产生。而审稿人却说：Now the samples were Ni and it is impossible for Ni to have no oxide on the surface. Surely the XPS did not pick this up, but such a statement is obviously wrong.
请问我该如何回复审稿人，或者能否通过其他的方法来对表层氧化物进行测定与分析。

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1楼 2013-05-03 10:49:32
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wcjhit

木虫 (正式写手)
各位大牛帮帮忙啊 谢谢了！
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2楼2013-05-03 14:33:11
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ncsuuvm

至尊木虫 (职业作家)
★
wcjhit(金币+1): 谢谢参与
你etch前和后为什么Ni峰增加呢？？ 如果样品有氧化物，用XPS很容易检测出来。不知道你说的什么意思。
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5楼2013-05-03 15:37:44
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hwweven

至尊木虫 (知名作家)
★
wcjhit(金币+1): 谢谢参与
单质Ni2p在852.3和869.7附近，而NiO中的Ni2p在853.3和871.7附近，Ni2O3的Ni2p3/2可能在856.8附近，楼主可以对照着找找看。
看图中未刻蚀的表面似乎有NiO存在，但峰很弱小。
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wcjhit
7楼2013-05-03 22:45:46
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wcjhit

木虫 (正式写手)
引用回帖:
5楼: Originally posted by ncsuuvm at 2013-05-03 15:37:44
你etch前和后为什么Ni峰增加呢？？ 如果样品有氧化物，用XPS很容易检测出来。不知道你说的什么意思。

本人，XPS菜鸟，我也不清楚为什么前后Ni峰增加。我就是想用该方法分析一下真空热处理后试样表面是否有氧化物产生或氧化物有多厚》？
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8楼2013-05-04 10:22:00
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wcjhit

木虫 (正式写手)
送红花一朵
引用回帖:
7楼: Originally posted by hwweven at 2013-05-03 22:45:46
单质Ni2p在852.3和869.7附近，而NiO中的Ni2p在853.3和871.7附近，Ni2O3的Ni2p3/2可能在856.8附近，楼主可以对照着找找看。
看图中未刻蚀的表面似乎有NiO存在，但峰很弱小。

非常感谢！
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9楼2013-05-04 10:22:36
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熊猫侠

木虫 (著名写手)
★
wcjhit(金币+1): 谢谢参与
如果你的样品不是粉末，表面氧化层刻蚀之后，Ni的相对含量增高，肯定信号更好。对应的氧的含量会降低
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10楼2013-05-04 21:55:33
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readytogo3楼
2013-05-03 15:07   回复  
wcjhit(金币+1): 谢谢参与
userhung4楼
2013-05-03 15:13   回复  
wcjhit(金币+1): 谢谢参与
yingying15886楼
2013-05-03 21:04   回复  
wcjhit(金币+1): 谢谢参与
yingying158811楼
2013-05-06 00:01   回复  
haixiawu12楼
2013-05-20 01:31   回复  
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