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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 工艺设计与开发 » 硅片作为衬底时怎么去除表面氧化层
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11lywang

新虫 (初入文坛)

[求助] 硅片作为衬底时怎么去除表面氧化层

我查了一下，要去除硅片表面的氧化层，根据CRA的标准清洗方法，可用DHF溶液，也就是HF和H2O2和去离子水按一定比例配成的溶液来处理，单纯这个溶液就能达到去除表面氧化层的目的吗？如果可以，具体这种溶液的配比是多少比多少？用擦洗的方法还是浸泡？要处理多长时间？谢谢各位！
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1楼 2013-04-27 22:03:36
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zhouwenhui2000

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
314977903: 金币+2, 应助指数+1, 专家考核, 感谢专家参与应助\\(^o^)/~ 2013-05-07 17:33:49
应该是用氢氟酸气体错处理
赞一下 回复此楼
送人玫瑰，手有余香。
6楼2013-05-07 16:07:28
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