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硅片作为衬底时怎么去除表面氧化层
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| 我查了一下，要去除硅片表面的氧化层，根据CRA的标准清洗方法，可用DHF溶液，也就是HF和H2O2和去离子水按一定比例配成的溶液来处理，单纯这个溶液就能达到去除表面氧化层的目的吗？如果可以，具体这种溶液的配比是多少比多少？用擦洗的方法还是浸泡？要处理多长时间？谢谢各位！ |
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