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电沉积纳米氧化亚铜遇到的问题
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大家好，我的毕业设计做的是电沉积纳米氧化亚铜，用的是不锈钢和Cu基底，最近做了一下沉积样品的XRD，结果两者都有很明显的铜峰，不知道什么原因。我用的是醋酸铜和醋酸钠溶液，pH为5.75，电沉积电压为-0.2V（vs SCE），25摄氏度。 。 分析原因可能是1Cu基底沉积样XRD样是基底的，但不锈钢上的铜峰一定是我沉积上去的。2什么条件控制不好导致了Cu的生成，所以Cu生成的机理，找不到。 希望大家帮忙分析下原因，还有怎么才能避免铜的生成呢？？ 谢谢大家啊啊 |
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12楼2015-04-10 16:52:47
wgx-cn 
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2楼2013-04-26 10:24:21
yuxi-seu
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3楼2013-04-26 12:21:29
lzb7758520
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4楼2013-04-26 15:42:45