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makino0924

新虫 (初入文坛)

[求助] 电沉积纳米氧化亚铜遇到的问题

大家好,我的毕业设计做的是电沉积纳米氧化亚铜,用的是不锈钢和Cu基底,最近做了一下沉积样品的XRD,结果两者都有很明显的铜峰,不知道什么原因。我用的是醋酸铜和醋酸钠溶液,pH为5.75,电沉积电压为-0.2V(vs SCE),25摄氏度。

分析原因可能是1Cu基底沉积样XRD样是基底的,但不锈钢上的铜峰一定是我沉积上去的。2什么条件控制不好导致了Cu的生成,所以Cu生成的机理,找不到。

希望大家帮忙分析下原因,还有怎么才能避免铜的生成呢??
谢谢大家啊啊
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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
电沉积电压为-0.2V(vs SCE)?你的沉积电压在哪里看的文献啊?
梦想不能当饭吃啊
4楼2013-04-26 15:42:45
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