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xiaoxiao108

新虫 (初入文坛)

[求助] Al在空气中氧化形成的氧化铝薄膜是否容易击穿?

我想请问下,我想生成一薄层(10nm左右)的氧化铝薄膜,是否可以用在空气中暴露的方法氧化,氧化完之后的氧化铝薄膜的质量怎么样?两边沉积金属电极之后加电压会不会击穿呢?谢谢大家的解答!!
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xiaoxiao108

新虫 (初入文坛)

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引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2013-04-25 17:33:15
真空腔不知道。
问题是你怎么解决真空腔中表面原生氧化层去除?...

我说的在真空腔中进行氧化,是指在沉积铝的PVD腔中,沉积完铝,直接通入氧气氧化,这样是不是不用考虑原生氧化层的问题?我还没有做过实验,不知道在PVD腔里面直接氧化,实验条件允不允许?谢谢啦!
5楼2013-04-26 07:40:59
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
chemlh: 欢迎yswyx专家积极交流 2013-04-26 07:50:20
空气中形成的氧化层是非常疏松的。这个中学物理实验就已经做过了。沉积金属的话,直接会导通,根本谈不上击穿。
你这种膜应该用ALD来做。
2楼2013-04-22 19:14:23
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xiaoxiao108

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2013-04-22 19:14:23
空气中形成的氧化层是非常疏松的。这个中学物理实验就已经做过了。沉积金属的话,直接会导通,根本谈不上击穿。
你这种膜应该用ALD来做。

谢谢您的回复!我想,空气中形成的氧化层疏松的原因是空气中有水分,引入了OH键吗?如果在真空腔中通入掺入一定氧气的氩气,这样热氧化形成的膜应该会是绝缘介质吧?ALD做工艺相对较麻烦,不是我想达到的效果。
3楼2013-04-25 10:01:44
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖


fbqrdzs: 应助指数+1 2013-07-07 11:05:46
引用回帖:
3楼: Originally posted by xiaoxiao108 at 2013-04-25 10:01:44
谢谢您的回复!我想,空气中形成的氧化层疏松的原因是空气中有水分,引入了OH键吗?如果在真空腔中通入掺入一定氧气的氩气,这样热氧化形成的膜应该会是绝缘介质吧?ALD做工艺相对较麻烦,不是我想达到的效果。...

真空腔不知道。
问题是你怎么解决真空腔中表面原生氧化层去除?

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4楼2013-04-25 17:33:15
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