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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » Al在空气中氧化形成的氧化铝薄膜是否容易击穿？
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xiaoxiao108

新虫 (初入文坛)

[求助] Al在空气中氧化形成的氧化铝薄膜是否容易击穿？

我想请问下，我想生成一薄层（10nm左右）的氧化铝薄膜，是否可以用在空气中暴露的方法氧化，氧化完之后的氧化铝薄膜的质量怎么样？两边沉积金属电极之后加电压会不会击穿呢？谢谢大家的解答！！
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1楼 2013-04-22 08:11:45
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖


fbqrdzs: 应助指数+1 2013-07-07 11:05:46
引用回帖:
3楼: Originally posted by xiaoxiao108 at 2013-04-25 10:01:44
谢谢您的回复！我想，空气中形成的氧化层疏松的原因是空气中有水分，引入了OH键吗？如果在真空腔中通入掺入一定氧气的氩气，这样热氧化形成的膜应该会是绝缘介质吧？ALD做工艺相对较麻烦，不是我想达到的效果。...

真空腔不知道。
问题是你怎么解决真空腔中表面原生氧化层去除？
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xiaoxiao108
4楼2013-04-25 17:33:15
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 欢迎yswyx专家积极交流 2013-04-26 07:50:20
空气中形成的氧化层是非常疏松的。这个中学物理实验就已经做过了。沉积金属的话，直接会导通，根本谈不上击穿。
你这种膜应该用ALD来做。
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2楼2013-04-22 19:14:23
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xiaoxiao108

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2013-04-22 19:14:23
空气中形成的氧化层是非常疏松的。这个中学物理实验就已经做过了。沉积金属的话，直接会导通，根本谈不上击穿。
你这种膜应该用ALD来做。

谢谢您的回复！我想，空气中形成的氧化层疏松的原因是空气中有水分，引入了OH键吗？如果在真空腔中通入掺入一定氧气的氩气，这样热氧化形成的膜应该会是绝缘介质吧？ALD做工艺相对较麻烦，不是我想达到的效果。
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3楼2013-04-25 10:01:44
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xiaoxiao108

新虫 (初入文坛)
送红花一朵
引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2013-04-25 17:33:15
真空腔不知道。
问题是你怎么解决真空腔中表面原生氧化层去除？...

我说的在真空腔中进行氧化，是指在沉积铝的PVD腔中，沉积完铝，直接通入氧气氧化，这样是不是不用考虑原生氧化层的问题？我还没有做过实验，不知道在PVD腔里面直接氧化，实验条件允不允许？谢谢啦！
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5楼2013-04-26 07:40:59
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