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Al在空气中氧化形成的氧化铝薄膜是否容易击穿?
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xiaoxiao108
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Al在空气中氧化形成的氧化铝薄膜是否容易击穿?
我想请问下,我想生成一薄层(10nm左右)的氧化铝薄膜,是否可以用在空气中暴露的方法氧化,氧化完之后的氧化铝薄膜的质量怎么样?两边沉积金属电极之后加电压会不会击穿呢?谢谢大家的解答!!
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1楼
2013-04-22 08:11:45
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2013-07-07 11:05:46
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3楼
:
Originally posted by
xiaoxiao108
at 2013-04-25 10:01:44
谢谢您的回复!我想,空气中形成的氧化层疏松的原因是空气中有水分,引入了OH键吗?如果在真空腔中通入掺入一定氧气的氩气,这样热氧化形成的膜应该会是绝缘介质吧?ALD做工艺相对较麻烦,不是我想达到的效果。...
真空腔不知道。
问题是你怎么解决真空腔中表面原生氧化层去除?
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xiaoxiao108
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2013-04-25 17:33:15
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2013-04-26 07:50:20
空气中形成的氧化层是非常疏松的。这个中学物理实验就已经做过了。沉积金属的话,直接会导通,根本谈不上击穿。
你这种膜应该用ALD来做。
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2013-04-22 19:14:23
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2楼
:
Originally posted by
yswyx
at 2013-04-22 19:14:23
空气中形成的氧化层是非常疏松的。这个中学物理实验就已经做过了。沉积金属的话,直接会导通,根本谈不上击穿。
你这种膜应该用ALD来做。
谢谢您的回复!我想,空气中形成的氧化层疏松的原因是空气中有水分,引入了OH键吗?如果在真空腔中通入掺入一定氧气的氩气,这样热氧化形成的膜应该会是绝缘介质吧?ALD做工艺相对较麻烦,不是我想达到的效果。
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3楼
2013-04-25 10:01:44
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yswyx
at 2013-04-25 17:33:15
真空腔不知道。
问题是你怎么解决真空腔中表面原生氧化层去除?...
我说的在真空腔中进行氧化,是指在沉积铝的PVD腔中,沉积完铝,直接通入氧气氧化,这样是不是不用考虑原生氧化层的问题?我还没有做过实验,不知道在PVD腔里面直接氧化,实验条件允不允许?谢谢啦!
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5楼
2013-04-26 07:40:59
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