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[请教]金上镀铜的问题
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cooboo
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专业: 金属材料的微观结构
[交流]
[请教]金上镀铜的问题
我在在200nm厚的Au Seed layer上镀Cu,但在2mA/cm2的电流密度下却总也镀不上,同样条件下在Cu的镀很正常。我想请问,是不是能够镀上的最小电流值要大于2mA/cm2?我怎么才能从理论上计算这个值?谢谢。
最佳答案赠送3个金币,其余两个赠送给另外两个答案以示感谢!
[
Last edited by Rainycc on 2009-3-6 at 10:57
]
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1楼
2007-08-22 17:04:42
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zhhui0909
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★
cooboo(金币
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):谢谢!
电沉积时有个过电位,小于这个过电位是沉积不上的。
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5楼
2007-08-23 08:00:38
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picaroon
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你可以先扫一个循环伏安!
★ ★
allsw(金币
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):谢谢!
cooboo(金币
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):谢谢!
你可以先扫一个循环伏安曲线,根据循环伏安曲线发生沉积的区域,用电流除以面积,就是你的工作电流。你沉积不上是否跟你的基体金的表面有氧化层有关?你选用的基体面积是否一样?
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2楼
2007-08-22 23:27:26
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引用回帖:
Originally posted by
picaroon
at 2007-8-22 15:27:
你可以先扫一个循环伏安曲线,根据循环伏安曲线发生沉积的区域,用电流除以面积,就是你的工作电流。你沉积不上是否跟你的基体金的表面有氧化层有关?你选用的基体面积是否一样?
谢谢。不过,我不是想测这个工作电流。我是用potentiostat做的试验,可以控制恒流,电流值是我给定的。
我的课题是希望电流密度越小越好,但是是不是如果太小了就镀不上去了,我怎么能知道这个最小的电流?另外,Au也氧化吗?因为之前没有什么去氧化处理过程。但是,同样的条件下(未处理),在4mA/cm2的电流密度下就可以镀得上,而在1mA/cm2及2mA/cm2的电流密度下却镀不上。
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3楼
2007-08-22 23:45:40
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Oo熊熊oO
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专业: 化学
虽然偶还没想到原因,但是可以先帮你顶下,呵呵……
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坚持就是胜利!
4楼
2007-08-23 01:30:04
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