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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » 磁控溅射中的双靶共溅射，如何通过调整两个靶材的溅射功率控制掺杂量？
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HHBWF

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反应磁控溅射 磁控溅射靶材资料大全

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1楼 2013-03-01 21:09:09
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wangyong832

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
8楼: Originally posted by HHBWF at 2013-03-03 10:38:32
能再请教一下么？你说如果是两个金属靶共同溅射的话就复杂了 请问 两个金属靶溅射与一金属一陶瓷有什么不一样的么？如果要是用量个金属靶的话 我可以一个用射频 一个用直流。不也是通过控制两个靶的溅射功率来实现 ...

都是金属靶材的话  是完全的反应溅射
你用一个陶瓷靶材，化学计量基本形成，
所以都是金属靶材的话  更难长
赞一下 回复此楼
9楼2013-03-03 15:29:42
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wangyong832

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流 2013-03-03 01:22:06
你另外一个靶材是多晶靶材？
个人觉得你这个要经过系统的探索，比如两个靶材的功率，两个靶材距离衬底的距离等等，
  要是你是用多晶靶材去溅射倒不是很困难，要是两个金属靶材反应溅射那工作量就相当大了
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2楼2013-03-02 01:31:03
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3楼2013-03-02 10:58:45
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4楼2013-03-02 14:26:46
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