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磁控溅射中的双靶共溅射,如何通过调整两个靶材的溅射功率控制掺杂量?
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1楼
2013-03-01 21:09:09
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wangyong832
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【答案】应助回帖
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8楼
:
Originally posted by
HHBWF
at 2013-03-03 10:38:32
能再请教一下么?你说如果是两个金属靶共同溅射的话就复杂了 请问 两个金属靶溅射与一金属一陶瓷有什么不一样的么?如果要是用量个金属靶的话 我可以一个用射频 一个用直流。不也是通过控制两个靶的溅射功率来实现 ...
都是金属靶材的话 是完全的反应溅射
你用一个陶瓷靶材,化学计量基本形成,
所以都是金属靶材的话 更难长
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9楼
2013-03-03 15:29:42
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wangyong832
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【答案】应助回帖
★
感谢参与,应助指数 +1
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流
2013-03-03 01:22:06
你另外一个靶材是多晶靶材?
个人觉得你这个要经过系统的探索,比如两个靶材的功率,两个靶材距离衬底的距离等等,
要是你是用多晶靶材去溅射倒不是很困难,要是两个金属靶材反应溅射那工作量就相当大了
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2楼
2013-03-02 01:31:03
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2013-03-02 14:26:46
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