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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » 磁控溅射中的双靶共溅射，如何通过调整两个靶材的溅射功率控制掺杂量？
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HHBWF

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反应磁控溅射 磁控溅射靶材资料大全

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1楼 2013-03-01 21:09:09
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HHBWF

禁虫 (小有名气)
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3楼2013-03-02 10:58:45
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wangyong832

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流 2013-03-03 01:22:06
你另外一个靶材是多晶靶材？
个人觉得你这个要经过系统的探索，比如两个靶材的功率，两个靶材距离衬底的距离等等，
  要是你是用多晶靶材去溅射倒不是很困难，要是两个金属靶材反应溅射那工作量就相当大了
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2楼2013-03-02 01:31:03
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HHBWF

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4楼2013-03-02 14:26:46
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wangyong832

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by HHBWF at 2013-03-02 14:26:46
如果要是通过自己试的话对于我这里来说 有点不现实了 我这缺少必要的测试设备 目前只知道我需要的掺杂量是多少 但是不知道 怎样通过调整溅射功率来控制达到我需要的掺杂量 很纠结。如果有测试设备的话自己摸索摸索也 ...

个人觉得唯一方法就是自己摸索
  因为磁控溅射这玩意在化学计量比控制上就是这样，哪怕你事先知道你化合物的溅射产率 和 你金属的产率，实际实验情况和你计算情况也会有很大差异。
  而且即使有人跟你做过同样的工作，不同设备上的参数基本上参考价值不大.
  你很幸福了  用陶瓷靶材
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5楼2013-03-02 18:33:53
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