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wangyong832

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★
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nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流 2013-03-03 01:22:06

你另外一个靶材是多晶靶材？
个人觉得你这个要经过系统的探索，比如两个靶材的功率，两个靶材距离衬底的距离等等，
要是你是用多晶靶材去溅射倒不是很困难，要是两个金属靶材反应溅射那工作量就相当大了

2楼2013-03-02 01:31:03

HHBWF

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3楼2013-03-02 10:58:45

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4楼2013-03-02 14:26:46

wangyong832

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引用回帖:

4楼: Originally posted by HHBWF at 2013-03-02 14:26:46
如果要是通过自己试的话对于我这里来说有点不现实了我这缺少必要的测试设备目前只知道我需要的掺杂量是多少但是不知道怎样通过调整溅射功率来控制达到我需要的掺杂量很纠结。如果有测试设备的话自己摸索摸索也 ...

个人觉得唯一方法就是自己摸索
  因为磁控溅射这玩意在化学计量比控制上就是这样，哪怕你事先知道你化合物的溅射产率和你金属的产率，实际实验情况和你计算情况也会有很大差异。
  而且即使有人跟你做过同样的工作，不同设备上的参数基本上参考价值不大.
  你很幸福了  用陶瓷靶材

5楼2013-03-02 18:33:53

HHBWF

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6楼2013-03-02 20:10:16

wangyong832

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引用回帖:

6楼: Originally posted by HHBWF at 2013-03-02 20:10:16
设备匮乏真心伤不起啊你说的我也知道不过还是非常感谢你...

呵呵求无难为无米之炊

7楼2013-03-03 05:06:30

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8楼2013-03-03 10:38:32

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引用回帖:

8楼: Originally posted by HHBWF at 2013-03-03 10:38:32
能再请教一下么？你说如果是两个金属靶共同溅射的话就复杂了请问两个金属靶溅射与一金属一陶瓷有什么不一样的么？如果要是用量个金属靶的话我可以一个用射频一个用直流。不也是通过控制两个靶的溅射功率来实现 ...

都是金属靶材的话是完全的反应溅射
你用一个陶瓷靶材，化学计量基本形成，
所以都是金属靶材的话更难长

9楼2013-03-03 15:29:42

HHBWF

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10楼2013-03-04 14:31:47