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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » 磁控溅射中的双靶共溅射，如何通过调整两个靶材的溅射功率控制掺杂量？
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1楼2013-03-01 21:09:09
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吴艳杰

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
13楼: Originally posted by wangyong832 at 2013-03-08 15:55:47
谈不上心得，就是瞎折腾过一段时间，得出的结论是：反应共溅射这玩意太不让人省心了
    大家多多交流...

你好 我也是用共溅射 有问题想请教您  就是怎么判断两个靶材能一起溅射到片子上呢
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20楼2016-03-21 18:54:26
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wangyong832

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流 2013-03-03 01:22:06
你另外一个靶材是多晶靶材？
个人觉得你这个要经过系统的探索，比如两个靶材的功率，两个靶材距离衬底的距离等等，
  要是你是用多晶靶材去溅射倒不是很困难，要是两个金属靶材反应溅射那工作量就相当大了
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2楼2013-03-02 01:31:03
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禁虫 (小有名气)
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3楼2013-03-02 10:58:45
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4楼2013-03-02 14:26:46
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