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请教 xrd 表征掺杂样品 峰位移动由替代式转为间隙式掺杂的峰位变化规律
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C替代O ,大离子替代小离子。 掺杂浓度低时,遵循替代式掺杂,由布拉格公式衍射峰往低角度偏移;晶胞参数变大,晶胞变大; 掺杂浓度高时,替代式掺杂,衍射峰往高角度偏移;晶胞参数变小,晶胞变小; 我这种理解不知道有没有问题,另外,理论上我觉得行的通,但是在掺杂浓度高时 峰位的变化规律 没有找到相应的文献佐证,还请推荐过量掺杂时(间隙掺杂时)关于xrd讨论的文献,谢谢。会继续追加金币。 |
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8楼2015-01-07 09:02:54
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3楼2013-02-18 09:46:14
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【答案】应助回帖
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感谢参与,应助指数 +1
yanhualover: 金币+2, 精彩回复,值得鼓励。 2013-02-19 06:32:04
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这是不是可以从另一个角度来看,要用到固体物理中的相图概念。 你的掺杂,是引入了一个新的化学相,比如,某种金属的氧化物与碳化物,他们的特征峰不尽相同,因此,这里会观察到两相,可以分峰拟合。在掺杂较低时,作为替位或填隙缺陷,宏观上,不影响整体的晶向,比如Ga掺杂ZnO,在Ga 占2wt.%的质量分数时,只有ZnO (002)和(004)的相位。掺杂较高时,会造成两相分离,Ga2O3的相位出现。 您的情况,要看两种化合物的特征峰,然后用相分离来分析。 |
4楼2013-02-19 02:39:05










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