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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 请教 xrd 表征掺杂样品 峰位移动由替代式转为间隙式掺杂的峰位变化规律
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ling860

金虫 (正式写手)

[求助] 请教 xrd 表征掺杂样品 峰位移动由替代式转为间隙式掺杂的峰位变化规律

C替代O ，大离子替代小离子。
掺杂浓度低时，遵循替代式掺杂，由布拉格公式衍射峰往低角度偏移；晶胞参数变大，晶胞变大；
掺杂浓度高时，替代式掺杂，衍射峰往高角度偏移；晶胞参数变小，晶胞变小；

我这种理解不知道有没有问题，另外，理论上我觉得行的通，但是在掺杂浓度高时 峰位的变化规律 没有找到相应的文献佐证，还请推荐过量掺杂时（间隙掺杂时）关于xrd讨论的文献，谢谢。会继续追加金币。
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1楼 2013-02-18 00:17:57
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vivi安tj

金虫 (小有名气)
引用回帖:
7楼: Originally posted by ling860 at 2013-02-19 17:35:48
我的问题可能没说清楚。

按照掺杂离子和本体材料看，掺杂离子小相比较于替代的离子。随掺杂浓度增加，衍射峰出现了先向大角度偏移，又相小角度偏移的现象，但没有出现第二种结构的相。 衍射峰的反向移动我没找到 ...

楼主您好 我想请问一下您这个问题解决了吗  随着掺杂浓度的提高，想大角度移动后又向小角度移动这个问题您是怎么解释的呀 请求帮助 非常感谢
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8楼2015-01-07 09:02:54
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