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请教 xrd 表征掺杂样品 峰位移动由替代式转为间隙式掺杂的峰位变化规律
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C替代O ，大离子替代小离子。 掺杂浓度低时，遵循替代式掺杂，由布拉格公式衍射峰往低角度偏移；晶胞参数变大，晶胞变大； 掺杂浓度高时，替代式掺杂，衍射峰往高角度偏移；晶胞参数变小，晶胞变小； 我这种理解不知道有没有问题，另外，理论上我觉得行的通，但是在掺杂浓度高时 峰位的变化规律 没有找到相应的文献佐证，还请推荐过量掺杂时（间隙掺杂时）关于xrd讨论的文献，谢谢。会继续追加金币。 |
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7楼2013-02-19 17:35:48
tt.yao
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3楼2013-02-18 09:46:14
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【答案】应助回帖
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感谢参与，应助指数 +1
yanhualover: 金币+2, 精彩回复，值得鼓励。 2013-02-19 06:32:04
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这是不是可以从另一个角度来看，要用到固体物理中的相图概念。 你的掺杂，是引入了一个新的化学相，比如，某种金属的氧化物与碳化物，他们的特征峰不尽相同，因此，这里会观察到两相，可以分峰拟合。在掺杂较低时，作为替位或填隙缺陷，宏观上，不影响整体的晶向，比如Ga掺杂ZnO，在Ga 占2wt.%的质量分数时，只有ZnO （002）和（004）的相位。掺杂较高时，会造成两相分离，Ga2O3的相位出现。 您的情况，要看两种化合物的特征峰，然后用相分离来分析。 |
4楼2013-02-19 02:39:05
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