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z416203567

铜虫 (初入文坛)

[求助] IBE刻蚀孔结构不均匀问题

我在对105nm的铝进行IBE刻蚀的时候，出现了结构刻蚀不均匀的情况（结构中间处刻透，但周围没刻透），请问这是什么原因？
结构为：400nm宽，1600nm长的十字孔结构。
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1楼 2013-01-26 23:24:35
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by limeiyu53 at 2013-01-27 16:44:29
应该是蚀刻出了问题，至于是不是显影出了问题显影完在显微镜下看一下就知道了

这个论断太武断了。
400nm的线条，光学显微镜完全无法观察是否显透，需要用电镜。用了电镜，如果是彻底没显透的情况，也是没办法看出来的，只能看出footing之类的残留。即使是粗线条，如果是彻底没显透的情况，在光学显微镜下也是非常难观察的。
如果楼主不是做的变剂量的光刻，光刻或刻蚀哪个出了问题，是很难说的。即使是变剂量光刻，楼主提供的信息也不够完全，也排除不了光刻的问题，只是IBE刻蚀的局部均匀性问题可能性更大而已。而IBE的局部均匀性问题，是本身这个技术的特征，不是出了问题，而是楼主选择的刻蚀方式是错误的。
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8楼2013-01-28 00:18:20
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
显影没显透？没有做discum？光刻产生了footing？
IBE一般不会出现不均匀的现象，多数是光刻出了问题。最好还是详细描述一下光刻的条件，并且拍一个带胶的电镜照片。
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2楼2013-01-27 02:41:18
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z416203567

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2013-01-27 02:41:18
显影没显透？没有做discum？光刻产生了footing？
IBE一般不会出现不均匀的现象，多数是光刻出了问题。最好还是详细描述一下光刻的条件，并且拍一个带胶的电镜照片。

使用的电子束曝光机是：JBX6300FS; 100KeV; 200pa; 5TH;CD26,  50℃热板显影5分钟，采用的变剂量光刻200，250,300...600uC/cm2制作9组，光刻胶是zep520
刻蚀的时候不会出现中间的金属离子向两边堆积产生没刻透的情况吗？
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3楼2013-01-27 14:05:52
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limeiyu53

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
应该是蚀刻出了问题，至于是不是显影出了问题显影完在显微镜下看一下就知道了
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4楼2013-01-27 16:44:29
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