| 查看: 2126 | 回复: 10 | |||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||||
[求助]
IBE刻蚀孔结构不均匀问题
|
|||||
|
我在对105nm的铝进行IBE刻蚀的时候，出现了结构刻蚀不均匀的情况（结构中间处刻透，但周围没刻透），请问这是什么原因？ 结构为：400nm宽，1600nm长的十字孔结构。 |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 薄膜材料的表征 | 薄膜材料和器件制备 |
» 猜你喜欢
北京航空航天大学26级博士招生-生物医学工程-合成生物学
已经有20人回复
-
温州大学王娟课题组2026年招生
已经有10人回复
-
金属材料论文润色/翻译怎么收费?
已经有99人回复
-
温州大学2026年招生（化学、材料）
已经有10人回复
-
招生负责_院士团队_学生高自由度成长_擅长学生培养
已经有5人回复
-
温州大学招收2026年入学博士研究生（化学、材料、环境）
已经有10人回复
-
非晶合金
已经有2人回复
-
院士团队-每届学生都优秀-高自由度-团队氛围好
已经有0人回复
-
求调剂
已经有1人回复
-
化工学院（学院正式调剂群+联系方式）
已经有0人回复
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.1
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
【答案】应助回帖
★ ★ ★
yanhualover: 金币+3, 谢谢提供如此详尽的答复。期待更精彩。 2013-02-01 07:37:21
yanhualover: 金币+3, 谢谢提供如此详尽的答复。期待更精彩。 2013-02-01 07:37:21
|
纳米所刻的？ 我们先假设IBE没有问题。因为做的是变剂量，所以显影之后会有显透或者没显透的部分，或者是显透或显过的部分，或者这些情况都有。那么在IBE的刻蚀下，会呈现不同剂量下的图形，存在很明显的不均匀性。也就是说，有的刻过了，有的没刻到。不知道你现在是不是这个现象？如果你只是有一部分图形是如你所说，那部分图形就是剂量小，没有显透的图形。 如果是所有的图形都像你说的那样，那虽然不能排除光刻的原因，但就要考虑刻蚀的问题了。因为只有在光刻全部显透，刻蚀不够的情况下，才会出现全片都是你说的情况。 现在我们考虑IBE的刻蚀原理，离子束刻蚀，离子是不聚焦的，打出来的离子，会存在一定的散射角，这个角度有时候很大。因此IBE的工件台是可以倾斜的。我们相像一下，如果片子不倾斜，那么在线条中间的刻蚀能量，就会比边上大，中间会先刻蚀光，而线条边缘由于光刻胶侧壁的阻挡，受到的能量小，所以后刻蚀光。所以会通过倾斜片子来解决问题，而片子的倾斜角度，离子束的发散角，片子回正的时间，都要相互配合，否则对于精细线条刻蚀会有比较严重的不均匀。一般来说，IBE的刻蚀都是均匀的，工艺已经调整到比较好的状态的。像你这种情况，有可能是iIBE的工艺设定问题。其实一般来说，大家在设计的时候都会考虑过刻一下，即使衬底受到一些影响，也在设计之初考虑到这个因素，这样线条的边缘就可以保证刻透。如果对衬底被刻蚀不能接受，实际上应该考虑RIE的金属刻蚀，或者是做一层buffer。 |
7楼2013-01-28 00:03:45
yswyx
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.1
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
2楼2013-01-27 02:41:18
3楼2013-01-27 14:05:52
4楼2013-01-27 16:44:29
5