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IBE刻蚀孔结构不均匀问题
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我在对105nm的铝进行IBE刻蚀的时候，出现了结构刻蚀不均匀的情况（结构中间处刻透，但周围没刻透），请问这是什么原因？ 结构为：400nm宽，1600nm长的十字孔结构。 |
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 薄膜材料的表征 | 薄膜材料和器件制备 |
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5楼2013-01-27 22:10:44
yswyx 
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2楼2013-01-27 02:41:18
3楼2013-01-27 14:05:52
4楼2013-01-27 16:44:29
