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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)

[求助] 电弧离子镀和cathodic Arc 有什么区别啊

电弧离子镀(AIP)与cathodic arc两种镀膜方法是一样的吗?不是的话有什么区别呀,网上搜了一下相关的信息不是很多,跪求帮助,谢谢
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aaronlc311

木虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 葵花点穴手h at 2013-01-22 21:17:35
离子镀和电弧镀区别在哪呢?都是产生的离子啊...

离子镀:
靶材的离子化可以是通过蒸发(如EB或者电弧),溅射,或者干脆就是气体的分解(CVD),没有一种特定的方法。
这种方法的特点是有高能粒子轰击工件/涂层表面。这种高能粒子可能是离子,也可能是中性粒子。
电弧镀:
Cathodic arc deposition是利用阴极蒸发靶材产生高能离子,然后一般工件加有负偏压,带正电的离子可以以更高的能量沉积在工件表面。
同时Cathodic arc也是一种常见的离子源,用来蒸发靶材产生离子,然后用在其他的镀层方法上(PI3&D)。
总体来说,离子镀离子源种类多,待镀材料的选择更为广泛,而且粒子能量高,沉积的薄膜更加致密。相比较而言,电弧镀的靶材选择范围就较窄。
(以上均为个人理解,欢迎拍砖)
非淡泊无以明志,非宁静无以致远
4楼2013-01-23 04:56:40
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aaronlc311

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
ant_512: 金币+2, 应助指数+1, 感谢! 2013-01-22 14:12:59
葵花点穴手h: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-01-22 21:13:32
Cathodic Arc是一种蒸发靶材料的方法,优点是离子化程度高,靶材利用率较高。产生的macro-particles可以用filter过滤掉,称为filtered-arc,可以作为PI3&D 还有其它方法的离子源,比如用作Ion Plating的离子源的时候整个系统就叫AIP。
AIP是以Cathodic Arc蒸发靶材做离子源的离子镀。
Cathodic Arc是离子源,Ion Plating是沉积方法,两个东西不是一类不能比较,但是两个东西合在一起就是你说的AIP。
http://en.wikipedia.org/wiki/Cathodic_arc_deposition
http://en.wikipedia.org/wiki/Ion_plating
非淡泊无以明志,非宁静无以致远
2楼2013-01-22 04:06:59
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by aaronlc311 at 2013-01-22 04:06:59
Cathodic Arc是一种蒸发靶材料的方法,优点是离子化程度高,靶材利用率较高。产生的macro-particles可以用filter过滤掉,称为filtered-arc,可以作为PI3&D 还有其它方法的离子源,比如用作Ion Plating的离子源的 ...

离子镀和电弧镀区别在哪呢?都是产生的离子啊
做学术是一件严谨的事
3楼2013-01-22 21:17:35
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