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lyw31320016铜虫 (小有名气)
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[交流]
水合肼与氨水对还原氧化石墨烯的影响 已有1人参与
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先放三张紫外图。 Graph1.jpg(85.02KB) http://kuai.xunlei.com/d/LnU4DdzciXbpUAQA06b?p=130497 GSs2.jpg(172.02KB) http://kuai.xunlei.com/d/LnU4Dd7coHbpUAQAee1?p=130497 GSs.jpg(163.72KB) http://kuai.xunlei.com/d/LnU4Dd-ctHbpUAQA003?p=130497 第一张是未做还原处理的GO。 第二张是第一次还原处理的GO。反应前，我使用了SDBS作为分散剂，超声了10min，搅拌了30min。100℃回流处理1h。结果发现在225nm处还是有一个平的峰，还原后特征峰在255nm处。感觉还原效果不理想。就又做了一遍。（以前做的，同样的步骤和配比，都是只有一个明显的特征峰，出现在270nm左右） 第三张是第二次还原处理的GO。相较第二次，使用了更多了的水合肼和氨水，反应时间也延长了1h，但是发现还原效果更差了，如图。 对比发现两次还原峰都出现在255nm左右。 我想，水合肼与氨水的配比，应该对还原的效果有很大的影响。而且，这次的还原峰都只有255nm，我认为应该是跟原本GO的氧化程度有关，水合肼和氨水的还原，可能只是针对某些特殊的含氧基团，所以这两次都只是出现在255nm左右。 我查找了相关文献，只发现了水合肼对GO还原的影响。而氨水的作用，我却不太了解。Processable aqueous dispersions of graphene nanosheets 在这里，分享我的实验经历，希望能跟大家分享分享各自的想法。 |
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| Thx |
2楼2013-11-28 20:47:44
