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wangyong832

银虫 (著名写手)


[交流] 氧化物半导体迁移率低----室温反应磁控溅射

大家有用过反应磁控溅射在室温下制备氧化物半导体的吗?

室温下溅射的薄膜迁移率太低,都低于Hall系数测试仪的测试极限。提高衬底温度倒是能增加迁移率,但是工业应用没前景啊。

室温共溅射的3元氧化物半导体更是很差,结晶质量太差了。

大家有什么想法  建议 都可以交流
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wangyong832

银虫 (著名写手)


引用回帖:
14楼: Originally posted by lsx2121 at 2013-01-14 02:03:41
二元的 ,室温下做反应溅射 工业上 有几种方法:

1) 非平衡闭合磁场反应溅射, 直接进行反应溅射
2) 先溅射金属 + 等离子体氧化
3)    溅射 + 等离子监控系统,有很多的应用。

三元的 反应溅射比较难控制 ...

啊  
  高手  让我长见识了
   还请多多指教。
15楼2013-01-14 02:34:53
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userhung

禁虫 (文学泰斗)


2楼2012-12-29 19:44:39
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xpengpengx

铜虫 (小有名气)


★ ★
wangyong832(金币+1): 谢谢参与
zhaohaixing: 金币+1, 欢迎新虫来功能材料版交流~~ 2013-01-15 09:09:37
非要用反应磁控溅射吗?直接做成氧化物靶材溅射不行吗?
3楼2012-12-29 20:07:39
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wangyong832

银虫 (著名写手)


引用回帖:
3楼: Originally posted by xpengpengx at 2012-12-29 20:07:39
非要用反应磁控溅射吗?直接做成氧化物靶材溅射不行吗?

从工业应用角度考虑,反应溅射成本是最低的。
  一些三元氧化物半导体,你做成氧化物靶材也解决不了问题,不同元素的溅射产率不同
4楼2012-12-29 22:13:25
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su-b089楼
2012-12-30 15:03   回复  
wangyong832(金币+1): 谢谢参与
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