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时效过程中为什么导电率上升
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小窗fly
铜虫
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虫号: 1067971
[交流]
时效过程中为什么导电率上升
Cu-Ni-Si-Mg合金在500度时效时随时间延长导电率上升,谁能帮我解释一下原因,急求,谢谢
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1楼
2012-12-26 00:05:10
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小窗fly
铜虫
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引用回帖:
6楼
:
Originally posted by
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at 2012-12-26 18:57:00
1)500°可以一定程度激活点缺陷扩散湮灭;位错也能低能化排列组态;晶界也可能有微调,降低界面能;
2)脱溶析出,使得过饱和的基体晶格得到松弛;
这些微观过程都使得基体“干净”。
看到一些文献,脱溶析出是固溶体内固溶元素减少应该是很重要的原因。溶质原子的对电子的散射作用影响很大。
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14楼
2012-12-27 23:56:16
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匿名
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★
小窗fly(金币+1): 谢谢参与
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2楼
2012-12-26 08:41:48
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dccpb
新虫
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虫号: 1317517
★
小窗fly(金币+1): 谢谢参与
我想位错回复和晶粒长大是主要原因吧,,,位错和晶界这样的“缺陷”对电流具有阻碍作用,在铜合金领域中,有个著名的定律(貌似是MISS.....)是用来说明各种情况对导电性影响的,位错的影响较小。。
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3楼
2012-12-26 08:45:41
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石头段
银虫
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★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
wercde: 金币+1, 感谢交流,欢迎常来~~
2012-12-26 17:57:20
时效过程中点缺陷的密度降低,减少对电子的散射,所以导电率上升。
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5楼
2012-12-26 15:48:45
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su-b08
4楼
2012-12-26 14:32
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小窗fly(金币+1): 谢谢参与
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