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[交流]
为什么磁控溅射使用射频电源时功率会慢慢变小?
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我在使用磁控溅射沉积薄膜时,使用射频电源作为靶的电源,沉积2小时,刚开始时功率调到200W,可是到沉积结束时功率下降到140W左右了,电流、电压以及自偏压都下降了,请问高手这是怎么回事?要怎么解决? |
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