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hcswj木虫 (小有名气)
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纳米介孔硅合成的一些问题
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想要合成的是100nm左右的介孔硅（如下TEM图），参考的方法如下： 1g CTAB溶于480mL 水，加3.5mLNaOH (2M)，加热至80℃，加5mL TEOS，搅拌2h后过滤，洗，干燥，再去除CTAB。 有两个问题： 1. 合成以后过滤，到底是取上面的沉淀呢还是下面的清液？如果是沉淀，那粒径应该很大，不是纳米的呀；如果是清液，离心也离不出来。我有点糊涂了。 2. 后处理去除CTAB，有人用甲醇-盐酸回流的方法，有人用高温煅烧的方法，不知道哪种方法比较好呢。如果回流，那么时间温度多少比较合适？高温煅烧会不会影响粒子的形貌呢？ 谢谢！  未命名.jpg [ 来自科研家族 纳米技术 ] |
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zhangkun232
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hcswj
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