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硅片清洗
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hqh2012
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]
硅片清洗
在不少文献中看到清洗硅片或玻璃片时都用到H2SO4 +H2O2配制的洗液,想请问一下高手,用这个洗液时用不用加热?若需要,为什么要加热?加热温度如何选定?谢谢!
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1楼
2012-09-26 16:52:34
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hqh2012
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3楼
:
Originally posted by
小昭好
at 2012-09-26 18:21:53
用priaha洗液洗的过程是使硅片亲水的呀。配好后就是沸腾的,加热效果更好,煮沸几个小时就很好用了
我们配置是在冰水浴条件下向硫酸中加入双氧水(搅拌),所以配种好的是冷却的。
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9楼
2012-09-27 09:57:08
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2012-09-27 09:54:09
这是RCA清洗里的三号液,要加热,煮沸。这个主要是为了将有机沾污碳化或氧化,煮沸就是为了达到最佳的效果,液体可以不断的循环并冲击硅片表面,否则沾污下不来。
加热温度一般在120度以上,自己实验用热板或磁力搅拌啥的,调节温度到这个温度,然后控制着不断鼓泡沸腾,但不能太猛烈,容易出危险。
如果没经验,建议不要轻易试,我可以给你找个地方帮忙洗。
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2楼
2012-09-26 18:19:10
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很有帮助, 谢谢
2012-09-27 09:54:39
用priaha洗液洗的过程是使硅片亲水的呀。配好后就是沸腾的,加热效果更好,煮沸几个小时就很好用了
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只有想不到,没有做不到
3楼
2012-09-26 18:21:53
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很有帮助
2012-09-27 09:57:22
个人经验,放在水浴里加热即可,最好在通风厨内操作。
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4楼
2012-09-26 19:37:30
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