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郭凤杰

铜虫 (初入文坛)

[求助] EBL光刻胶

电子束刻蚀用的光刻胶除了PMMA还有那些啊,尤其灵敏度比PMMA高的 都有哪些啊,他们的灵敏度都为多少啊?大家谁知道,谢谢了~
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郭凤杰

铜虫 (初入文坛)

送鲜花一朵
引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2012-09-21 18:05:06
UVIII是shipley很老的光刻胶了,是0.35~0.18um时代的光刻胶,本身分辨率很受限制,当年我用的时候从来没突破过0.2um,在我眼中是很烂的EBL光刻胶,因为它本身就是光学胶。

除了PMMA之外,主要的电子束光刻胶有以 ...

谢谢您的帮助,我说的灵敏度就是表明抗蚀剂对高能粒子作用反应的敏感程度,一般以微库每平方厘米为单位,数值越小灵敏度越高。应该就是你说的感光剂量。我具体就是想了解一下做电子束刻蚀除了PMMA,还可以用那些光刻胶(电子束抗蚀剂),他们的灵敏度与PMMA比较如何,重点是有哪些是比PMMA灵敏度数值大 (也就是灵敏度低(标题上描述可能有误),我想在相同的时间内减轻曝光的程度),如果选用后对电子束刻蚀工艺有什么影响,如果您对这方面比较了解的话谢谢指导了,非常感谢!~
5楼2012-09-21 19:12:32
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lichi008

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
UVIII 超级灵敏 比PMMA灵敏很多倍 具体灵敏度不太清楚 需要查询
2楼2012-09-21 17:42:05
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
郭凤杰: 金币+20, ★★★★★最佳答案 2012-09-22 10:26:45
UVIII是shipley很老的光刻胶了,是0.35~0.18um时代的光刻胶,本身分辨率很受限制,当年我用的时候从来没突破过0.2um,在我眼中是很烂的EBL光刻胶,因为它本身就是光学胶。

除了PMMA之外,主要的电子束光刻胶有以下几种:
ZEP520:电子束正胶,做到50nm问题不大,抗刻蚀性能好,剂量高,工艺窗口较大。缺点是很难买,没有小包装。
SAL601:电子束负胶,分辨率很好,也是当年最喜欢用的胶,抗刻蚀性能好,剂量低,工艺窗口较小,工艺适应性好。缺点同样是很难买,没小包装。
HSQ:算是无机胶,分辨率极好,其他性能一般。也属于很难买的胶,有小包装。

不知道楼主说的灵敏度具体是指什么?感光的最小剂量?那么这几个都比PMMA好,SAL601最好。数据因为十多年了记不得了,你查查文献吧。

反正这些胶都是很贵,比光学胶的价格要贵几十倍。我这儿有渠道分装,大家不用买大瓶的,需要就联系我就是了。

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3楼2012-09-21 18:05:06
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quanten

金虫 (著名写手)

QQ群(NW-FET): 157220400


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
PMMA是很好的负胶,不用寻找更好的胶,即使有更好的胶,你的机器达不到精度也是枉然,具体要做dose test, 大结构和小结构用不同的dose,ZEP也可以尝试,HSQ是正胶,这三种胶做到50nm没有问题,如果做不到,就要做dose test,优化工艺
楼上比较在行,不过SAL胶好像精度比较低,做掩模板会用到,不知道我说的是不是准确,欢迎指正
4楼2012-09-21 18:34:08
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