| 查看: 1727 | 回复: 6 | ||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||||
[求助]
光刻工艺
|
||||
| 请问光刻胶的曝光时间和软烘时间有关系吗？是不是在其他条件不变的情况下，软烘时间越长需要的曝光时间也越长？望指导！谢谢 |
回复此楼» 猜你喜欢
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有231人回复
ququ_zzz
铁虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 19
- 帖子: 1
- 在线: 4.6小时
- 虫号: 2784224
- 注册: 2013-11-07
- 性别: MM
- 专业: 高分子物理与高分子物理化
7楼2013-11-07 11:20:08
Jackcd12
至尊木虫 (知名作家)
- MN-EPI: 1
- 应助: 2150 (讲师)
- 金币: 13184.5
- 红花: 366
- 帖子: 7675
- 在线: 2175.4小时
- 虫号: 1865159
- 注册: 2012-06-20
- 性别: GG
- 专业: 电化学
2楼2012-09-13 13:10:52
semi-white
铁杆木虫 (著名写手)
Pay first, then get.
- MN-EPI: 4
- 应助: 440 (硕士)
- 贵宾: 0.361
- 金币: 4204.9
- 散金: 2186
- 红花: 43
- 帖子: 1505
- 在线: 603.1小时
- 虫号: 468457
- 注册: 2007-11-27
- 性别: GG
- 专业: 光谱分析
3楼2012-09-13 14:13:14
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - MN-EPI: 8
- 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.9
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
【答案】应助回帖
|
soft baking在理论上来说是去除溶剂，但不仅仅是去除溶剂的过程。软烘时间长对光刻曝光时间和显影时间的影响是很大的，而对于不同成膜树脂的胶，这种影响又有所不同。 传统的我们用到的光刻胶，软烘时间长，不仅仅会去除溶剂，还会发生树脂的热化学反应，树脂会交链。这样的话，对于正胶来说，我们就需要更高的曝光剂量来破坏交联，也就是曝光的时间会延长。对应的显影的时间也会因为交联而延长。而且光刻胶的整体性能会下降，底膜会很不干净。 而IC领域用的CAR，化学放大胶，相对而言soft baking对曝光时间的影响不是那么大，因为破坏交联的主要反映发生在PEB。 soft baking时间长对光刻是很有害的，如果你怕粘附不好，尽量把片子洗干净吧。 |
4楼2012-09-18 19:12:49
